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一、概述

SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动Mapping测量模块，通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。

• 全基片椭偏绘制化测量解决方案；
• 支持产品设计以及功能模块定制化，一键绘制测量；
• 配置Mapping模块，全基片自定义多点定位测量能力；
• 丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力

二、产品特点

采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)；

高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集；

具备全基片自定义多点自动定位测量能力，提供全面膜厚检测分析报告；

数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料；

三、产品应用

广泛应用OLED，LED，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。

建议配件

• 技术规格